chiro Kano ( 1 )和Daniel Darbouret ( 2 )

(1)实验室纯水研发部门，Nihon Millipore 有限公司，日本东京。

(2)实验室纯水研发部门，Millipore S.A.，Saint-Quentin en Yvelines，法国。

结果和讨论

初级纯化系统及水箱

在水纯化过程中，连续电流去离子技术被重点分析。在纯化过程中，水的电导率及硼和硅的浓度见图6。以RO 组件产水为进水的EDI 组件可以去除绝大多数的污染物质。这些被去除的污染物质成为EDI 的弃水。EDI 的产水水质可以达到电导率<0.1μS/cm，硼含量<1μg/L，硅含量<0.01mg/L。

表5 ICP-MS 对Milli-Q Element 水进行痕量分析——所有的值均为ppb 级（ng/L）

监测与量化的计算极限很低，能够用于ng /L 水平分析。 对于¹¹B 测量极限为1.4 ng /L，量化极限为4.1 ng / L。

使用分光光度法测定的硅元素的浓度极限为1 ppb 以下。

此外，这个系统可实现大多数元素在ppt 水平的水质；实际上，许多元素的含量在测量极限之下。对这个研究中的所有元素，终端精制元件都表现了较高的截留率，达到ppt 级的水质。

这个用来进行痕量分析的纯化系统，在以前的文章中被详细描述¹⁵。

结论

在进行ppt 级的痕量分析中，超纯水被用于制备空白液、标准液及样品稀释。利用某种特性和[配置可以达到大多数元素的检测限。然而，向硼和硅这样的弱电离离子，他们不影响电阻率，所以不容易被用户发觉。有待于研究如何降低这些弱电离离子的穿透能力。另外，超纯水中痕量硅元素的纯化和灵敏度的研究仍在进行中。本文中描述的水纯化链中确保了稳定、最小的元素污染。EDI 模块保证了较好的离子平衡且在使用寿命内无需离子再生。

 

反渗透技术结合连续电流去离子技术对包括硼离子在内的所有离子都显示了较高的离子截留率和稳定性。在最后的水纯化单元，通过使用特殊设计的硼去除纯化柱可以降低早期的硼穿透现象。这些技术的结合保证达到适合于ppt 级、次ppt 级痕量分析对超纯水的要求。

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